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イオンインプラントフィラメント

用途

  • 半導体製造工程の中、活性領域(ソース・ドレイン)部分にイオンを注入してダイオード特性などを作るイオン注入工程で使用される、イオンビームを発生させるフィラメント

特徴

  • 高純度のタングステン材料の使用および精密な寸法管理
  • 熱処理加工による長寿命の維持
イオンインプラントフィラメント
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