TOKYO FUNNEL
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製品カテゴリー
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選択
イオンインプラントフィラメント
用途
半導体製造工程の中、活性領域(ソース・ドレイン)部分にイオンを注入してダイオード特性などを作るイオン注入工程で使用される、イオンビームを発生させるフィラメント
特徴
高純度のタングステン材料の使用および精密な寸法管理
熱処理加工による長寿命の維持